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Synopsys对此建议manbet万博官网

ISPSD 2019

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DTCO:与QuantumATK一起筛选和选择新的互连金属

4月5日2019年,在DTCO的背景下,新的互连金属不仅提供了减少摩尔寄生负载的希望,而且使新的结垢助推器,如…

Synopsys DTCO流程:技术开发manbet万博官网

2月1日2019年的今天,DTCO可以被恰当地描述为一种基于软件的方法,用于开发新的半导体工艺节点,全面考虑技术元素如何影响电路……

IBM和Synopsys使用DTCO创新来加速3nm流程开发manbet万博官网

8月15日,2018 - Synopsys制造,manbet万博官网知识产权,而设计实现技术使业界唯一完整的DTCO流程成为可能

森特龙TCAD新版本更新

8月9日,2018 -2018年6月发布了森特龙TCAD过程和设备仿真工具套件的O-2018.06版本。这个网络研讨会将提供这方面的重要更新的概述。

Sentaurus光刻

森特龙光刻代表了半导体器件制造过程开发和优化的高级建模,涵盖了光学领域的广泛应用,浸,EUV,和…

变形杆菌工作台

Proteus WorkBench提供了一个单一的工具环境,可以方便地构建模型,调优全芯片OPC校正配方,分析了接近效应对校正后和未校正后集成电路的影响。

普罗透斯

Proteus为执行全芯片接近校正提供了一个全面而强大的环境,建立修正模型,并分析了接近效应对校正和未校正的影响。

Proteus逆光刻技术(ILT)

光学接近效应的高级校正

Sentaurus光刻PWA

森特龙光刻过程窗口分析仪(PWA)是一种全面而强大的工具,用于可视化和分析模拟结果或实验数据,例如,临界…